一、四大原因看好国产替代逻辑
(1)政策面:
一.消息面上,在全球半导体产业格局深刻变革的背景下,我国光刻机国产化进程迎来重大突破。9月23日,第二十五届中国国际工业博览会在上海国家会展中心隆重开幕。在这场工业盛会中,上海微电子(SMEE)展台上首次公开亮相了极紫外(EUV)光刻机参数图。
在国家政策支持下,国内企业加速研发突破光刻机制造技术,目前国产光刻机在 90nm 及以下工艺节点方面取得了重要进展。2025 年三季度,国产光刻机产业迎来里程碑式突破:上海微电子 28nm 浸没式光刻机预计年内交付超 10 台,产能利用率超 90%,“华夏之光项目处” 的成立更标志着国家层面系统化推进量产的开始。这一系列进展不仅打破了长期技术垄断,更带动上下游产业链进入价值重估周期,成为资本市场最具确定性的投资主线之一。

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